Пневматичен диафрагмен клапан с висока чистота от неръждаема стомана 1/4 инча високо налягане
Описание на продукта
Спецификация на пневматичния диафрагмен клапан
| Технически данни | ||
| Размер на порта | 1/4 ″ | |
| коефициент на изхвърляне (CV) | 0.2 | |
| Максимално работно налягане | Ръководство | 310 бара (4500 psig) |
| Пневматичен | 206 бар (3000 psig) | |
| Работно налягане на пневматичния задвижващ механизъм | 4.2 ~ 6.2 бар (60 ~ 90 psig) | |
| работна температура | PCTFE: -23 ~ 65 ℃（ -10 ~ 150 ℉） | |
| Скорост на изтичане (хелий) | вътре | ≤1 × 10-9 mbar l/s |
| Външни | ≤1 × 10-9 mbar l/s | |
| Данни за потока | ||
| въздух @ 21 ℃（ 70 ℉） вода @ 16 ℃（ 60 ℉） | ||
| Спад на налягането на максимална лента за налягане на въздуха (PSIG) | Въздух (Lmin) | Вода (L/мин) |
| 0.68 (10) | 64 | 2.4 |
| 3.4 (50) | 170 | 5.4 |
| 6.8 (100) | 300 | 7.6 |
Процес на почистване
▶ Стандарт (WK-BA)
Всички заварени фуги се почистват според стандартните спецификации за почистване и опаковане на компанията.
Когато поръчвате, няма нужда да добавяте суфикс
▶ Почистване на кислород (WK-O2)
Могат да се осигурят спецификации за почистване и опаковане на продукти за кислородна среда. Този продукт отговаря на
Изисквания за чистотата на ASTMG93C. Когато поръчате, моля, добавете - O2 след номера на поръчката
▶ Ултра висока чистота (WK-EP)
Може да осигури контролиран повърхностен завършек, електрополинг RA0 тринадесет μm. Дейонизиран
Водно ултразвуково почистване. За да поръчате, добавете - EP след номера на поръчката
Всички заварени фуги се почистват според стандартните спецификации за почистване и опаковане на компанията.
Когато поръчвате, няма нужда да добавяте суфикс
▶ Почистване на кислород (WK-O2)
Могат да се осигурят спецификации за почистване и опаковане на продукти за кислородна среда. Този продукт отговаря на
Изисквания за чистотата на ASTMG93C. Когато поръчате, моля, добавете - O2 след номера на поръчката
▶ Ултра висока чистота (WK-EP)
Може да осигури контролиран повърхностен завършек, електрополинг RA0 тринадесет μm. Дейонизиран
Водно ултразвуково почистване. За да поръчате, добавете - EP след номера на поръчката
 | Основни структурни материали | ||
| Сериен номер | Елемент | текстура на материала | |
| 1 | Дръжка | алуминий | |
| 2 | Задвижващ механизъм | алуминий | |
| 3 | Вентил стъбло | 304 SS | |
| 4 | Капак | S17400 | |
| 5 | Гайка на капака | 316 SS | |
| 6 | Бутон | месинг | |
| 7 | диафрагма (5) | Никел кобалт сплав | |
| 8 | седалка на клапана | Pctfe | |
| 9 | Корпуване на клапана | 316L SS | |
Размери и поръчка на информация
Направо през тип
размер
Размерите са в инчове (mm) са само за справка
размер
Размерите са в инчове (mm) са само за справка
| Основен номер на поръчка | Тип и размер на порта | Размер. (Мм) | |||
| A | B | C | L | ||
| WV4H-6L-TW4- | 1/4 ″ тръба -W | 0.44 (11.2) | 0.30 (7.6) | 1.12 (28.6) | 1.81 (45.9) |
| WV4H-6L-FR4- | 1/4 ″ FA-MCR | 0.44 (11.2) | 0.86 (21.8) | 1.12 (28.6) | 2.85 (72.3) |
| WV4H-6L-MR4- | 1/4 ″ ma-mcr1/4 | 0.44 (11.2) | 0.58 (14.9) | 1.12 (28.6) | 2.85 (72.3) |
| WV4H-6L-TF4- | OD | 0.44 (11.2) | 0.70 (17.9) | 1.12 (28.6) | 2.85 (72.3) |
Участващи индустрии
TFT-LCD
Процесът Специални газове, използвани в процеса на отлагане на CVD на процеса на производство на TFT-LCD, са силан (S1H4), амоняк (NH3), фосфин (PH3), азотен оксид (N2O), NF3 и др. В допълнение, в допълнение, азот с висока чистота и висока чистота и други насипни газове също участват. Аргонът се използва в процеса на разпръскване, а разпръснатият филм, образуващ газ, е основният материал за разпръскване. Първо, се изисква газът, образуващ филм, да не може да реагира с целта, а най-подходящият газ е инертен газ. Голямо количество специален газ също ще се използва в процеса на офорт, докато електронният специален газ е предимно запалим, експлозивен и силно токсичен, така че изискванията за газова верига и технологии са много високи. Технологията на Wofei е специализирана в проектирането и инсталирането на специална система за пренос на газови преноси на ултра висока чистота.
Специалните газове се използват главно във формиране на филми и сухи офортни процеси в LCD индустрията. Има много видове LCD, сред които TFT-LCD е най-широко използваната LCD технология поради бързото си време за реакция, високо качество на изображения и постепенно по-ниска цена. Процесът на производство на TFT-LCD панел може да бъде разделен на три етапа: предния масив, среден и заден модул. Електронният специален газ се използва главно във филма, образуващ и сухи етапи на офорт на процеса на предния масив. След множество процеси на формиране на филми, неметалните филми SINX и метални филми като решетка, източник, изтичане и ITO се отлагат съответно върху субстрата.
Q1. Ами времето за водещи?
О: Извадката се нуждае от 3-5 дни, времето за масово производство се нуждае от 1-2 седмици за количеството на поръчката повече от
Q2. Имате ли ограничение за MOQ?
О: Ниска MOQ 1 снимка.
Q3. Как изпращате стоките и колко време отнема пристигането?
О: Обикновено изпращаме от DHL, UPS, FedEx или TNT. Обикновено отнема 5-7 дни. Авиокомпанията и морските доставки също са незадължителни.
Q4. Как да продължа поръчка?
О: Първо ни уведомете вашите изисквания или приложение.
Второ, ние цитираме според вашите изисквания или нашите предложения.
Трето клиентът потвърждава пробите и поставя депозит за официална поръчка.
Четвърто ние организираме производството.
Напишете съобщението си тук и ни го изпратете
