Пневматичен диафрагмен вентил от неръждаема стомана с висока чистота 1/4 инча високо налягане
Описание на продукта
Спецификация на пневматичния диафрагмен вентил
| Технически данни | ||
| Размер на порта | 1/4″ | |
| коефициент на разреждане (Cv) | 0,2 | |
| Максимално работно налягане | Наръчник | 310 бара (4500 psig) |
| Пневматичен | 206 бара (3000 psig) | |
| Работно налягане на пневматичния задвижващ механизъм | 4,2~6,2 бара (60~90 psig) | |
| работна температура | PCTFE: -23~65 ℃（-10~150 ℉） | |
| Скорост на изтичане (хелий) | вътре | ≤1×10-9 mbar l/s |
| външен | ≤1×10-9 mbar l/s | |
| Данни за потока | ||
| въздух при 21 ℃（70 ℉） вода при 16 ℃（60 ℉） | ||
| Спад на налягането на максимално въздушно налягане bar (psig) | въздух (lmin) | вода (л/мин) |
| 0,68 (10) | 64 | 2.4 |
| 3,4 (50) | 170 | 5.4 |
| 6,8 (100) | 300 | 7.6 |
Процес на почистване
▶стандарт (WK-BA)
Всички заварени съединения трябва да бъдат почистени съгласно стандартните спецификации за почистване и опаковане на компанията.
При поръчка не е необходимо добавяне на суфикс
▶Почистване с кислород (WK-O2)
Могат да бъдат предоставени спецификации за почистване и опаковане на продукта за кислородна среда.Този продукт отговаря на
изисквания за чистота astmg93c.При поръчка добавете – O2 след номера на поръчката
▶Ултра висока чистота (WK-EP)
Може да осигури контролирано повърхностно покритие, електрополиране Ra0 тринадесет μ m.Дейонизиран
водно ултразвуково почистване.За поръчка добавете – EP след номера на поръчката
Всички заварени съединения трябва да бъдат почистени съгласно стандартните спецификации за почистване и опаковане на компанията.
При поръчка не е необходимо добавяне на суфикс
▶Почистване с кислород (WK-O2)
Могат да бъдат предоставени спецификации за почистване и опаковане на продукта за кислородна среда.Този продукт отговаря на
изисквания за чистота astmg93c.При поръчка добавете – O2 след номера на поръчката
▶Ултра висока чистота (WK-EP)
Може да осигури контролирано повърхностно покритие, електрополиране Ra0 тринадесет μ m.Дейонизиран
водно ултразвуково почистване.За поръчка добавете – EP след номера на поръчката
 | Основни конструктивни материали | ||
| Сериен номер | елемент | текстура на материала | |
| 1 | Дръжка | алуминий | |
| 2 | Актуатор | алуминий | |
| 3 | Стебло на клапана | 304 SS | |
| 4 | Боне | S17400 | |
| 5 | Гайка на капака | 316 SS | |
| 6 | Бутон | месинг | |
| 7 | диафрагма (5) | Сплав от никел и кобалт | |
| 8 | седло на клапана | PCTFE | |
| 9 | тяло на клапана | 316L SS | |
Размери и информация за поръчка
Направо през тип
размер
Размерите са в инчове (mm) са само за справка
размер
Размерите са в инчове (mm) са само за справка
| Основен номер на поръчка | Тип и размер на порта | размер (mm) | |||
| A | B | C | L | ||
| WV4H-6L-TW4- | 1/4″ тръба -W | 0,44 (11,2) | 0,30 (7,6) | 1,12 (28,6) | 1,81 (45,9) |
| WV4H-6L-FR4- | 1/4″ FA-MCR | 0,44 (11,2) | 0,86 (21,8) | 1,12 (28,6) | 2,85 (72,3) |
| WV4H-6L-MR4- | 1/4″ MA-MCR1/4 | 0,44 (11,2) | 0,58 (14,9) | 1,12 (28,6) | 2,85 (72,3) |
| WV4H-6L-TF4- | OD | 0,44 (11,2) | 0,70 (17,9) | 1,12 (28,6) | 2,85 (72,3) |
Включени индустрии
TFT-LCD
Специалните газове за процеса, използвани в процеса на CVD отлагане на производствения процес на TFT-LCD, са силан (S1H4), амоняк (NH3), фосфин (PH3), азотен оксид (N2O), NF3 и др. В допълнение, водород с висока чистота и високо чист азот и други насипни газове също участват в процеса.Аргонът се използва в процеса на разпръскване, а разпръснатият филм, образуващ газ, е основният материал за разпръскване.Първо, изисква се филмообразуващият газ да не може да реагира с целта и най-подходящият газ е инертен газ.Голямо количество специален газ също ще бъде използвано в процеса на ецване, докато електронният специален газ е предимно запалим, експлозивен и силно токсичен, така че изискванията за газовата верига и технологията са много високи.Wofei Technology е специализирана в проектирането и инсталирането на специална система за пренос на газ със свръхвисока чистота.
Специалните газове се използват главно при процесите на формиране на филм и сухо ецване в LCD индустрията.Има много видове LCD, сред които TFT-LCD е най-широко използваната LCD технология поради бързото време за реакция, високото качество на изображението и постепенно по-ниската цена.Производственият процес на TFT-LCD панел може да бъде разделен на три етапа: преден масив, средна клетка и монтаж на заден модул.Електронният специален газ се използва главно в етапите на образуване на филм и сухо ецване на процеса на предния масив.След множество процеси на образуване на филм, SiNx неметални филми и метални филми като решетка, източник, дренаж и ITO се отлагат съответно върху субстрата.
Q1.Какво ще кажете за времето за изпълнение?
О: Пробата се нуждае от 3-5 дни, времето за масово производство се нуждае от 1-2 седмици за количество на поръчка повече от
Q2.Имате ли лимит на MOQ?
A: Ниска MOQ 1 снимка.
Q3.Как изпращате стоките и колко време отнема да пристигнат?
О: Обикновено изпращаме с DHL, UPS, FedEx или TNT.Обикновено отнема 5-7 дни.Въздушен и морски транспорт също по избор.
Q4.Как да продължите с поръчка?
О: Първо ни уведомете за вашите изисквания или приложение.
Второ, ние цитираме според вашите изисквания или нашите предложения.
Третият клиент потвърждава пробите и поставя депозит за официална поръчка.
Четвърто Ние организираме производството.
Напишете вашето съобщение тук и ни го изпратете
